采用光学等级硅制作而成的硅(Si)窗口片成了应用于1.2 - 7μm光谱范围的热门产品。硅的密度很低(锗或硒化锌的一半),所以非常适合用于重量敏感的应用,特别是那些介于3-5μm范围之间的应用。其密度为2.329 g/cm3,努氏硬度则为1150。因此,它比锗更坚硬并且更加不易碎裂。
主要性能参数 |
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晶体结构
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面心立方
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熔点(℃)
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1420
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密度
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2.4(g/cm3)
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导电类型/掺杂物质
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I型非掺
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P掺B
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N掺P
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电 阻 率
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>1000Ωcm
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10-3~104Ωcm
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10-3~104Ωcm
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E P D
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≤100∕cm2
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≤100∕cm2
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≤100∕cm2
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氧含量(∕cm3)
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≤1~1.8×1018
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≤1~1.8×1018
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≤1~1.8×1018
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碳含量(∕cm3)
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≤5×1016
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≤5×1016
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≤5×1016
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采用光学等级硅制作而成的硅(Si)窗口片成了应用于1.2 - 7μm光谱范围的热门产品。硅的密度很低(锗或硒化锌的一半),所以非常适合用于重量敏感的应用,特别是那些介于3-5μm范围之间的应用。其密度为2.329 g/cm3,努氏硬度则为1150。因此,它比锗更坚硬并且更加不易碎裂。